他表示1aDRAM已于7月在总部开始量产中国工厂还有很多时间

，众所周知，由于某些原因，ASML 最先进的 EUV 光刻机无法进入中国内地，甚至一些海外厂商换下来的旧设备也很难进入内地。

此前路透社援引知情人士的话报道称，韩国企业 SK 海力士无锡工厂的升级改造计划遇阻，仅仅是因为阿斯麦的极紫外光刻机无法获批进入中国大陆，虽然 SK 海力士十分希望通过该设备提高存储芯片的生产效率。。

据多个外媒报道，SK 海力士 CEO 李锡熙对此进行了回应，并就无锡海力士半导体工厂的相关情况进行了沟通。

22 日上午，李锡熙社长在首尔三成洞 COEX 举办的‘第 14 届半导体日’活动上会见记者时表示:我们可以通过合作很好地应对。路透社报道称，SK海力士在一份声明中表示，这家8英寸代工厂主要生产电源管理，显示驱动器和微控制器单元半导体等芯片。

他认为，SK 海力士有足够的时间将 EUV 设备进口到中国李锡熙对于引进受限一事表示:正与美方合作，目前进展良好EUV 光刻技术已经在韩国本土的 DRAM 产线上应用，中国工厂还有充足的时间供斡旋沟通

当被问及此时是否会影响无锡工厂正常工作时，他表示，1a DRAM 已于 7 月在总部开始量产中国工厂还有很多时间。

本站了解到，SK 海力士在无锡工厂引进的光刻机将用于制造 10nm DRAM 芯片，也就是第四代内存SK 海力士已经在京畿道利川和无锡的工厂生产此类 DRAM从去年 7 月开始，SK 海力士还量产了全球首次应用 EUV 的 10nm 级第 4 代DRAM

根据此前 TrendForee 统计数据，无锡工厂对全球电子行业至关重要，其生产了 SK 海力士约半数的动态随机存储器芯片，占全球总量的 15%另一家市场分析公司 IDC 称，仅 2021 年，全球内存市场的需求就将增长 19%

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